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网络出版日期:1978-10-15,
纸质出版日期:1978-10-15
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李懋廉, 施评治. 在光学薄膜涂镀中应力的发展[J]. 光学精密工程, 1978,(5): 52-63
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1978,(5): 52-63
李懋廉, 施评治. 在光学薄膜涂镀中应力的发展[J]. 光学精密工程, 1978,(5): 52-63 DOI:
. [J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1978,(5): 52-63 DOI:
众所周知
很多真空蒸发淀积的材料是处在凝结过程所产生的应力状态中。应力可以是这样的高以致在某些情形下它可以引起基底变形
在其他情形下它能使膜层本身破裂并且从基底上起皮。测量各种不同制备条件下金属和电介质两种薄膜的应力大小是很有意义的
并同时对于特别用来制造薄膜电阻和电容的某些材料进行过详细的研究。现在的研究则是企图测量在单层与多层两种光学薄膜中所产生的应力的量级
目的是为了估计它对高精度光学元件面型和多层膜结构的机械稳定性的影响。
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