北京正负电子对撞机同步辐射X射线光刻光束线的光学特性

邵景鸿; 王传基

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北京正负电子对撞机同步辐射X射线光刻光束线的光学特性

论文 | 更新时间：2020-08-12

- 北京正负电子对撞机同步辐射X射线光刻光束线的光学特性
- The Optical Characters of Synchrotron Radiation X-ray Lithography Beamline at BEPC
- 光学精密工程 1992年0卷第3期页码：1-8
- 作者机构：
  
  1. 长春光机所
  2. 华南师范大学
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 网络出版日期：1992-06-15，
  
  纸质出版日期：1992-06-15
- 稿件说明：
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邵景鸿, 王传基. 北京正负电子对撞机同步辐射X射线光刻光束线的光学特性[J]. 光学精密工程, 1992,(3): 1-8

Shao Jinghong, Wang Chuanji. The Optical Characters of Synchrotron Radiation X-ray Lithography Beamline at BEPC[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1992,(3): 1-8
邵景鸿, 王传基. 北京正负电子对撞机同步辐射X射线光刻光束线的光学特性[J]. 光学精密工程, 1992,(3): 1-8 DOI：

Shao Jinghong, Wang Chuanji. The Optical Characters of Synchrotron Radiation X-ray Lithography Beamline at BEPC[J]. Editorial Office of Optics and Precision Engineering, 1992,(3): 1-8 DOI：

摘要

分析了光刻光束线中影响光刻面光强均匀性及有效工作波段的主要因素

并提出了改善光刻面照明质量的方法。最后给出了相应的实验结果。

Abstract

The uniformity of the light intensity on the lithography plane and the effective spectral range for the designs of the lithography beamline are the important optical features.This paper analysed the main factor which influences the two features above

and put forwarded to improve the methods of illumination on the lithography plane

and finally presented the experimental results correspordingly.

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