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薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光
微纳技术与精密机械 | 更新时间：2026-09-11
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    • 薄壳元件的磁控磁流变弹性体均匀抛光

    • Magnetorheological elastomer uniform polishing method for shell components

    • “磁控磁流变弹性体抛光技术实现薄壳元件内表面均匀抛光，通过磁场精确控制抛光压力，基于Preston方程构建去除函数模型，采用非负最小二乘法计算驻留时间，实验验证了该方法的有效性，为解决薄壳元件内表面超精密加工难题提供了新方案。”
    • 薛勃 ，朱力军 ，苏星 ，陈立 ，周涛 ，张建飞 ，海阔 ，黄文
    • 光学精密工程 2025年33卷第3期 页码：402-415

    • DOI： 10.37188/OPE.20253303.0402     

      中图分类号：
    • CSTR： 32169.14.OPE.20253303.0402     

    • 修回：2024-12-18 ，

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