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晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制
更新时间：2024-08-21
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    • 晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制

    • Rapid and uniform exposure control for wafer motion imaging system

    • “晶圆飞拍成像技术取得新突破，专家提出图像分区频率域评价的曝光控制方法，有效提升成像质量与速度。”
    • 光学精密工程   2024年 页码：1-12
    • 中图分类号： O438

    • 网络出版日期：2024-08-21，

      收稿日期：2024-06-19，

      修回日期：2024-07-24，

    扫 描 看 全 文

  • 王若宇,严富洋,刘暾东.晶圆飞拍成像系统的快速均匀曝光控制[J].光学精密工程, DOI：10.37188/OPE.XXXXXXXX.0001

    WANG Ruoyu,YAN Fuyang,LIU Tundong.Rapid and uniform exposure control for wafer motion imaging system[J].Optics and Precision Engineering, DOI：10.37188/OPE.XXXXXXXX.0001

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