大面积纳米压印技术及其器件应用

高晓蕾; 陈艺勤; 郑梦洁; 段辉高

doi:10.37188/OPE.20223005.0555

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大面积纳米压印技术及其器件应用

微纳技术与精密机械 | 更新时间：2022-03-25

- 大面积纳米压印技术及其器件应用
- Large-area nanoimprint lithography： processes and device applications
- 光学精密工程 2022年30卷第5期页码：555-573
- 作者机构：
  
  1.湖南大学机械与运载工程学院国家高效磨削工程技术研究中心，湖南长沙 410082
  2.东南大学江苏省微纳生物医疗器械设计与制造重点实验室，江苏南京 211189
  3.季华实验室，广东佛山 528000
- 作者简介：
  
  [ "高晓蕾（1997-），女，河北石家庄人，硕士研究生，2019年于南京师范大学获得学士学位，主要从事纳米加工与力学制造的研究。E-mail： gaoxiaolei@hnu.edu.cn" ]
  [ "陈艺勤（1988-），男，湖南永州人，助理教授，硕士生导师，2017年于湖南大学获得博士学位，主要从事芯片制造、微纳制造、先进制造等方面的研究。E-mail： chenyiqin@hnu.edu.cn" ]
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助项目(51805160;12104182);广东省基础与应用基础研究基金区域联合基金项目(2020A1515110971);东南大学江苏省微纳生物医疗器械设计与制造重点实验室开放研究基金资助课题(KF202001)
- DOI：10.37188/OPE.20223005.0555
  中图分类号： TN305.7;TB383.1
- 收稿日期：2021-06-08，
  
  修回日期：2021-08-15，
  
  纸质出版日期：2022-03-10
- 稿件说明：
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高晓蕾,陈艺勤,郑梦洁等.大面积纳米压印技术及其器件应用[J].光学精密工程,2022,30(05):555-573.

GAO Xiaolei,CHEN Yiqin,ZHENG Mengjie,et al.Large-area nanoimprint lithography： processes and device applications[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(05):555-573.
高晓蕾,陈艺勤,郑梦洁等.大面积纳米压印技术及其器件应用[J].光学精密工程,2022,30(05):555-573. DOI： 10.37188/OPE.20223005.0555.

GAO Xiaolei,CHEN Yiqin,ZHENG Mengjie,et al.Large-area nanoimprint lithography： processes and device applications[J].Optics and Precision Engineering,2022,30(05):555-573. DOI： 10.37188/OPE.20223005.0555.

摘要

大面积纳米压印技术是一种利用模板压印方法大规模制备大面积微纳米结构的图形化技术，具有重复性好、成本低及结构分辨率高等优点。对各类聚合物及介质的快速结构成型使得大面积纳米压印技术在制备微纳光学、光电器件方面具有独特的优势，可应用于发光二极管、显示器、增强现实光波导及微流控芯片等众多领域，并在纳米技术商业化中发挥关键作用。首先对纳米压印技术进行介绍，然后从大面积纳米压印技术、大面积压印模板制备、大面积纳米压印技术的器件应用及其前景与挑战四个方面来介绍大面积纳米压印技术。

Abstract

Large-area nanoimprint lithography is a patterning technology for fabricating micro-/nano-structures on a large scale with good repeatability， low cost， and high resolution. These advantages of rapidly constructing various polymers make large-area nanoimprint lithography a unique technology for the fabrication of micro/nano optical and optoelectronic devices for several applications， such as light emitting diodes， displays， augmented reality waveguides， and microfluidic devices. Therefore， large-area lithography is crucial for the commercialization of nanotechnologies. This review summarizes recent developments in the field of large-area nanoimprint lithography， including basic processes， fabrication methods for imprint molds， and typical device applications. Lastly， the prospects and challenges for large-area nanoimprint lithography are discussed.

关键词

Keywords

references

CHOU S Y ， KRAUSS P R ， RENSTROM P J . Imprint of sub-25 nm vias and trenches in polymers ［J］. Applied Physics Letters ， 1995 ， 67 （ 21 ）： 3114 - 3116 . doi: 10.1063/1.114851 http://dx.doi.org/10.1063/1.114851

CHOU S Y ， KRAUSS P R ， RENSTROM P J . Imprint lithography with 25-nanometer resolution ［J］. Science ， 1996 ， 272 （ 5258 ）： 85 - 87 . doi: 10.1126/science.272.5258.85 http://dx.doi.org/10.1126/science.272.5258.85

COLBURN M ， JOHNSON S C ， STEWART M D ， et al . Step and flash imprint lithography： a new approach to high-resolution patterning ［C］. SPIE Proceedings" ， " Emerging Lithographic Technologies III. Santa Clara， CA. SPIE ， 1999 ， 3676 ： 379 - 389 . doi: 10.1117/12.351155 http://dx.doi.org/10.1117/12.351155

VERSCHUUREN M A ， MEGENS M ， NI Y F ， et al . Large area nanoimprint by substrate conformal imprint lithography （SCIL）［J］. Advanced Optical Technologies ， 2017 ， 6 （ 3/4 ）： 243 - 264 . doi: 10.1515/aot-2017-0022 http://dx.doi.org/10.1515/aot-2017-0022

JI R ， HORNUNG M ， VERSCHUUREN M A ， et al . UV enhanced substrate conformal imprint lithography （UV-SCIL） technique for photonic crystals patterning in LED manufacturing ［J］. Microelectronic Engineering ， 2010 ， 87 （ 5/6/7/8 ）： 963 - 967 . doi: 10.1016/j.mee.2009.11.134 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2009.11.134

LAN H B ， LIU H Z . UV-nanoimprint lithography： structure， materials and fabrication of flexible molds ［J］. Journal of Nanoscience and Nanotechnology ， 2013 ， 13 （ 5 ）： 3145 - 3172 . doi: 10.1166/jnn.2013.7437 http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2013.7437

WANG C H ， FAN Y ， SHAO J Y ， et al . Discretely-supported nanoimprint lithography for patterning the high-spatial-frequency stepped surface ［J］. Nano Research ， 2021 ， 14 （ 8 ）： 2606 - 2612 . doi: 10.1007/s12274-020-3261-3 http://dx.doi.org/10.1007/s12274-020-3261-3

PERRET C ， GOURGON C ， LAZZARINO F ， et al . Characterization of 8-in. wafers printed by nanoimprint lithography ［J］. Microelectronic Engineering ， 2004 ， 73/74 ： 172 - 177 . doi: 10.1016/s0167-9317(04)00094-2 http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(04)00094-2

YI P Y ， WU H ， ZHANG C P ， et al . Roll-to-roll UV imprinting lithography for micro/nanostructures ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B， Nanotechnology and Microelectronics： Materials， Processing， Measurement， and Phenomena ， 2015 ， 33 （ 6 ）： 060801 . doi: 10.1116/1.4933347 http://dx.doi.org/10.1116/1.4933347

KIM J G ， SIM Y ， CHO Y ， et al . Large area pattern replication by nanoimprint lithography for LCD-TFT application ［J］. Microelectronic Engineering ， 2009 ， 86 （ 12 ）： 2427 - 2431 . doi: 10.1016/j.mee.2009.05.006 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2009.05.006

LIM H ， CHOI K B ， KIM G ， et al . Roller nanoimprint lithography for flexible electronic devices of a sub-micron scale ［J］. Microelectronic Engineering ， 2011 ， 88 （ 8 ）： 2017 - 2020 . doi: 10.1016/j.mee.2011.02.018 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2011.02.018

NAGATO K ， TAKAHASHI K ， SATO T ， et al . Laser-assisted replication of large-area nanostructures ［J］. Journal of Materials Processing Technology ， 2014 ， 214 （ 11 ）： 2444 - 2449 . doi: 10.1016/j.jmatprotec.2014.05.025 http://dx.doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2014.05.025

GAO H ， HU Y W ， XUAN Y ， et al . Nanolithography. Large-scale nanoshaping of ultrasmooth 3D crystalline metallic structures ［J］. Science ， 2014 ， 346 （ 6215 ）： 1352 - 1356 . doi: 10.1126/science.1260139 http://dx.doi.org/10.1126/science.1260139

ATTHI N ， DIELEN M ， SRIPUMKHAI W ， et al . Fabrication of high aspect ratio micro-structures with superhydrophobic and oleophobic properties by using large-area roll-to-plate nanoimprint lithography ［J］. Nanomaterials ， 2021 ， 11 （ 2 ）： 339 . doi: 10.3390/nano11020339 http://dx.doi.org/10.3390/nano11020339

YOUN S W ， OGIWARA M ， GOTO H ， et al . Prototype development of a roller imprint system and its application to large area polymer replication for a microstructured optical device ［J］. Journal of Materials Processing Technology ， 2008 ， 202 （ 1/2/3 ）： 76 - 85 . doi: 10.1016/j.jmatprotec.2007.08.069 http://dx.doi.org/10.1016/j.jmatprotec.2007.08.069

兰红波，刘明杨，郭良乐，等 . 面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻［J］. 光学精密工程， 2019 ， 27 （ 7 ）： 1516 - 1527 . doi: 10.3788/OPE.20192707.1516 http://dx.doi.org/10.3788/OPE.20192707.1516

LAN H B ， LIU M Y ， GUO L L ， et al . Composite imprint lithography for mass producing large-area microstructures ［J］. Opt. Precision Eng. ， 2019 ， 27 （ 7 ）： 1516 - 1527 . （in Chinese） . doi: 10.3788/OPE.20192707.1516 http://dx.doi.org/10.3788/OPE.20192707.1516

AHN S H ， GUO L J . High-speed roll-to-roll nanoimprint lithography on flexible plastic substrates ［J］. Advanced Materials ， 2008 ， 20 （ 11 ）： 2044 - 2049 . doi: 10.1002/adma.200702650 http://dx.doi.org/10.1002/adma.200702650

AHN S H ， GUO L J . Large-area roll-to-roll and roll-to-plate nanoimprint lithography： a step toward high-throughput application of continuous nanoimprinting ［J］. ACS Nano ， 2009 ， 3 （ 8 ）： 2304 - 2310 . doi: 10.1021/nn9003633 http://dx.doi.org/10.1021/nn9003633

JOHN J ， TANG Y Y ， ROTHSTEIN J P ， et al . Large-area， continuous roll-to-roll nanoimprinting with PFPE composite molds ［J］. Nanotechnology ， 2013 ， 24 （ 50 ）： 505307 . doi: 10.1088/0957-4484/24/50/505307 http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/24/50/505307

YOSHIKAWA H ， TANIGUCHI J ， TAZAKI G ， et al . Fabrication of high-aspect-ratio pattern via high throughput roll-to-roll ultraviolet nanoimprint lithography ［J］. Microelectronic Engineering ， 2013 ， 112 ： 273 - 277 . doi: 10.1016/j.mee.2013.03.117 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2013.03.117

FRENKEL R ， KIM B ， YAO D G . Extrusion roller imprinting with a variotherm belt mold ［J］. Machines ， 2014 ， 2 （ 4 ）： 299 - 311 . doi: 10.3390/machines2040299 http://dx.doi.org/10.3390/machines2040299

WANG Z Z ， YI P Y ， PENG L F ， et al . Continuous fabrication of highly conductive and transparent Ag mesh electrodes for flexible electronics ［J］. IEEE Transactions on Nanotechnology ， 2017 ， 16 （ 4 ）： 687 - 694 . doi: 10.1109/tnano.2017.2705173 http://dx.doi.org/10.1109/tnano.2017.2705173

YI P Y ， ZHANG C P ， PENG L F ， et al . Flexible silver-mesh electrodes with moth-eye nanostructures for transmittance enhancement by double-sided roll-to-roll nanoimprint lithography ［J］. RSC Adv ， 2017 ， 7 （ 77 ）： 48835 - 48840 . doi: 10.1039/c7ra09149d http://dx.doi.org/10.1039/c7ra09149d

LEE N ， YOO S ， KIM C H ， et al . Development of continuous metal patterns using two-dimensional atmospheric-pressure plasma-jet： on application to fabricate electrode on a flexible surface for film touch sensor ［J］. Journal of Micromechanics and Microengineering ， 2019 ， 29 （ 4 ）： 045013 . doi: 10.1088/1361-6439/ab0705 http://dx.doi.org/10.1088/1361-6439/ab0705

WOLF A J ， HAUSER H ， KÜBLER V ， et al . Origination of nano- and microstructures on large areas by interference lithography ［J］. Microelectronic Engineering ， 2012 ， 98 ： 293 - 296 . doi: 10.1016/j.mee.2012.05.018 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2012.05.018

YAMADA Y ， ITO K ， MIURA A ， et al . Simple and scalable preparation of master mold for nanoimprint lithography ［J］. Nanotechnology ， 2017 ， 28 （ 20 ）： 205303 . doi: 10.1088/1361-6528/aa6a9f http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/aa6a9f

JEONG G H ， PARK J K ， LEE K K ， et al . Fabrication of low-cost mold and nanoimprint lithography using polystyrene nanosphere ［J］. Microelectronic Engineering ， 2010 ， 87 （ 1 ）： 51 - 55 . doi: 10.1016/j.mee.2009.05.022 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2009.05.022

JE T J ， JEON E C ， PARK S C ， et al . Improvement of machining quality of copper-plated roll mold by controlling temperature variation ［J］. Transactions of Nonferrous Metals Society of China ， 2011 ， 21 ： s37 - s41 . doi: 10.1016/s1003-6326(11)61057-1 http://dx.doi.org/10.1016/s1003-6326(11)61057-1

CATES N ， EINCK V J ， MICKLOW L ， et al . Roll-to-roll nanoimprint lithography using a seamless cylindrical mold nanopatterned with a high-speed mastering process ［J］. Nanotechnology ， 2021 ， 32 （ 15 ）： 155301 . doi: 10.1088/1361-6528/abd9f1 http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/abd9f1

UNNO N ， TANIGUCHI J . Fabrication of the metal nano pattern on plastic substrate using roll nanoimprint ［J］. Microelectronic Engineering ， 2011 ， 88 （ 8 ）： 2149 - 2153 . doi: 10.1016/j.mee.2011.02.006 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2011.02.006

HUANG K F ， LEE Y C . Fabrication of metal roller mold with submicrometer feature size using contact printing photolithography technique ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B， Nanotechnology and Microelectronics： Materials， Processing， Measurement， and Phenomena ， 2013 ， 31 （ 3 ）： 031604 . doi: 10.1116/1.4804275 http://dx.doi.org/10.1116/1.4804275

TSAI S W ， CHEN P Y ， LEE Y C . Fabrication of a seamless roller mold with wavy microstructures using mask-less curved surface beam pen lithography ［J］. Journal of Micromechanics and Microengineering ， 2014 ， 24 （ 4 ）： 045022 . doi: 10.1088/0960-1317/24/4/045022 http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/24/4/045022

LEE Y H ， KE K C ， CHANG N W ， et al . Development of an UV rolling system for fabrication of micro/nano structure on polymeric films using a gas-roller-sustained seamless PDMS mold ［J］. Microsystem Technologies ， 2018 ， 24 （ 7 ）： 2941 - 2948 . doi: 10.1007/s00542-017-3683-3 http://dx.doi.org/10.1007/s00542-017-3683-3

HWANG S Y ， HONG S H ， JUNG H Y ， et al . Fabrication of roll imprint stamp for continuous UV roll imprinting process ［J］. Microelectronic Engineering ， 2009 ， 86 （ 4/5/6 ）： 642 - 645 . doi: 10.1016/j.mee.2008.11.055 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.11.055

SCHLEUNITZ A ， SPREU C ， MÄKELÄ T ， et al . Hybrid working stamps for high speed roll-to-roll nanoreplication with molded Sol-gel relief on a metal backbone ［J］. Microelectronic Engineering ， 2011 ， 88 （ 8 ）： 2113 - 2116 . doi: 10.1016/j.mee.2011.02.019 http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2011.02.019

ZHONG Z W ， SHAN X C . Microstructure formation via roll-to-roll UV embossing using a flexible mould made from a laminated polymer-copper film ［J］. Journal of Micromechanics and Microengineering ， 2012 ， 22 （ 8 ）： 085010 . doi: 10.1088/0960-1317/22/8/085010 http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/22/8/085010

DUMOND J J ， MAHABADI K A ， YEE Y S ， et al . High resolution UV roll-to-roll nanoimprinting of resin moulds and subsequent replication via thermal nanoimprint lithography ［J］. Nanotechnology ， 2012 ， 23 （ 48 ）： 485310 . doi: 10.1088/0957-4484/23/48/485310 http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/23/48/485310

DUMOND J J ， LOW H Y ， LEE H P ， et al . Multi-functional silicone stamps for reactive release agent transfer in UV roll-to-roll nanoimprinting ［J］. Materials Horizons ， 2016 ， 3 （ 2 ）： 152 - 160 . doi: 10.1039/c5mh00290g http://dx.doi.org/10.1039/c5mh00290g

KIM S ， HYUN S ， LEE J ， et al . Anodized aluminum oxide/polydimethylsiloxane hybrid mold for roll-to-roll nanoimprinting ［J］. Advanced Functional Materials ， 2018 ， 28 （ 23 ）： 1800197 . doi: 10.1002/adfm.201800197 http://dx.doi.org/10.1002/adfm.201800197

SHAO J Y ， CHEN X L ， LI X M ， et al . Nanoimprint lithography for the manufacturing of flexible electronics ［J］. Science China Technological Sciences ， 2019 ， 62 （ 2 ）： 175 - 198 . doi: 10.1007/s11431-018-9386-9 http://dx.doi.org/10.1007/s11431-018-9386-9

QIAO W ， HUANG W B ， LIU Y H ， et al . Toward scalable flexible nanomanufacturing for photonic structures and devices ［J］. Advanced Materials ， 2016 ， 28 （ 47 ）： 10353 - 10380 . doi: 10.1002/adma.201601801 http://dx.doi.org/10.1002/adma.201601801

MORO M ， TANIGUCHI J ， HIWASA S . Fabrication of antireflection structure film by roll-to-roll ultraviolet nanoimprint lithography ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B， Nanotechnology and Microelectronics： Materials， Processing， Measurement， and Phenomena ， 2014 ， 32 （ 6 ）： 06FG09 . doi: 10.1116/1.4901877 http://dx.doi.org/10.1116/1.4901877

WU C L ， SUNG C K ， YAO P H ， et al . Sub-15 nm linewidth gratings using roll-to-roll nanoimprinting and plasma trimming to fabricate flexible wire-grid polarizers with low colour shift ［J］. Nanotechnology ， 2013 ， 24 （ 26 ）： 265301 . doi: 10.1088/0957-4484/24/26/265301 http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/24/26/265301

WANG M W ， LIN W C ， LEE M H . Optimal design and fabrication of a light guide film with roll to roll process ［J］. Microsystem Technologies ， 2013 ， 19 （ 11 ）： 1753 - 1759 . doi: 10.1007/s00542-013-1900-2 http://dx.doi.org/10.1007/s00542-013-1900-2

GUO X ， HU J ， ZHUANG Z ， et al . Fabrication of wafer-scale nanopatterned sapphire substrate by hybrid nanoimprint lithography ［J］. Journal of Vacuum Science & Technology B， Nanotechnology and Microelectronics： Materials， Processing， Measurement， and Phenomena ， 2014 ， 32 （ 6 ）： 06FG06 . doi: 10.1116/1.4898778 http://dx.doi.org/10.1116/1.4898778

LEINER C ， SOMMER C ， SATZINGER V ， et al . CPV membranes made by roll-to-roll printing： a feasible approach？［C］. AIP Conference Proceedings. Freiburg ， Germany. Author（s）， 2016 ： 080002 . doi: 10.1063/1.4962100 http://dx.doi.org/10.1063/1.4962100

WANG D X ， HAUPTMANN J ， MAY C ， et al . Roll-to-roll fabrication of highly transparent Ca： Ag top-electrode towards flexible large-area OLED lighting application ［J］. Flexible and Printed Electronics ， 2021 ， 6 （ 3 ）： 035001 . doi: 10.1088/2058-8585/abf159 http://dx.doi.org/10.1088/2058-8585/abf159

HUTFLES J ， CHAPMAN W ， PELLEGRINO J . Roll-to-roll nanoimprint lithography of ultrafiltration membrane ［J］. Journal of Applied Polymer Science ， 2018 ， 135 （ 11 ）： 45993 . doi: 10.1002/app.45993 http://dx.doi.org/10.1002/app.45993

姜玉婷，张毅，胡跃强，等 . 增强现实近眼显示设备中光波导元件的研究进展［J］. 光学精密工程， 2021 ， 29 （ 1 ）： 28 - 44 . doi: 10.37188/OPE.20212901.0028 http://dx.doi.org/10.37188/OPE.20212901.0028

JIANG Y T ， ZHANG Y ， HU Y Q ， et al . Development of optical waveguide elements in augmented reality near-eye displays ［J］. Opt. Precision Eng. ， 2021 ， 29 （ 1 ）： 28 - 44 . （in Chinese） . doi: 10.37188/OPE.20212901.0028 http://dx.doi.org/10.37188/OPE.20212901.0028

EINCK V J ， TORFEH M ， MCCLUNG A ， et al . Scalable nanoimprint lithography process for manufacturing visible metasurfaces composed of high aspect ratio TiO 2 meta-atoms ［J］. ACS Photonics ， 2021 ， 8 （ 8 ）： 2400 - 2409 . doi: 10.1021/acsphotonics.1c00609 http://dx.doi.org/10.1021/acsphotonics.1c00609

SURESH V ， DING L ， CHEW A B ， et al . Fabrication of large-area flexible SERS substrates by nanoimprint lithography ［J］. ACS Applied Nano Materials ， 2018 ， 1 （ 2 ）： 886 - 893 . doi: 10.1021/acsanm.7b00295 http://dx.doi.org/10.1021/acsanm.7b00295

SMOLKA M ， HAASE A ， PALFINGER U ， et al . Roll-to-Roll pilot line for large-scale manufacturing of microfluidic devices ［C］. Single-use Technologies II ： Bridging Polymer Science to Biotechnology Applications ， 2017 .

SHINOHARA H ， FUJIWARA S ， TASHIRO T ， et al . Formation of patterned sapphire substrate using UV imprint processes ［J］. Journal of Photopolymer Science and Technology ， 2013 ， 26 （ 1 ）： 113 - 117 . doi: 10.2494/photopolymer.26.113 http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.26.113

IM S ， SIM E ， KIM D . Microscale heat transfer and thermal extinction of a wire-grid polarizer ［J］. Scientific Reports ， 2018 ， 8 ： 14973 . doi: 10.1038/s41598-018-33347-5 http://dx.doi.org/10.1038/s41598-018-33347-5

AHN S H ， YANG S Q ， MILLER M ， et al . High-performance wire-grid polarizers using jet and Flash™ imprint lithography ［J］. Journal of Micro/Nanolithography， MEMS， and MOEMS ， 2013 ， 12 ： 031104 . doi: 10.1117/1.jmm.12.3.031104 http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.12.3.031104

XU K ， LUO H W ， QIN J ， et al . Flexible devices fabricated by a plate-to-roll nanoimprint lithography system ［J］. Nanotechnology ， 2019 ， 30 （ 7 ）： 075301 . doi: 10.1088/1361-6528/aaf26f http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/aaf26f

KUMAR K ， DUAN H ， HEGDE R S ， et al . Printing colour at the optical diffraction limit ［J］. Nature Nanotechnology ， 2012 ， 7 （ 9 ）： 557 - 561 . doi: 10.1038/nnano.2012.128 http://dx.doi.org/10.1038/nnano.2012.128

AHN M S ， HWANG C S H ， JEONG K H . Tailoring single plasmonic resonance for RGB-NIR imaging using nanoimprinted complementary plasmonic structures of nanohole and nanodisk arrays ［J］. Advanced Optical Materials ， 2021 ， 9 （ 10 ）： 2002036 . doi: 10.1002/adom.202002036 http://dx.doi.org/10.1002/adom.202002036

MURTHY S ， PRANOV H ， FEIDENHANS'L N A ， et al . Plasmonic color metasurfaces fabricated by a high speed roll-to-roll method ［J］. Nanoscale ， 2017 ， 9 （ 37 ）： 14280 - 14287 . doi: 10.1039/c7nr05498j http://dx.doi.org/10.1039/c7nr05498j

MURTHY S ， MATSCHUK M ， HUANG Q ， et al . Fabrication of nanostructures by roll-to-roll extrusion coating ［J］. Advanced Engineering Materials ， 2016 ， 18 （ 4 ）： 484 - 489 . doi: 10.1002/adem.201500347 http://dx.doi.org/10.1002/adem.201500347

HØJLUND-NIELSEN E ， CLAUSEN J ， MÄKELA T ， et al . Plasmonic colors： toward mass production of metasurfaces ［J］. Advanced Materials Technologies ， 2016 ， 1 （ 7 ）： 1600054 . doi: 10.1002/admt.201600054 http://dx.doi.org/10.1002/admt.201600054

HUANG Y Y ， KE K C ， YANG S Y . Fabrication of large-area V-groove microstructures using gasbag-pressuring edge-irradiating UV imprinting ［J］. Microsystem Technologies ， 2019 ， 25 （ 3 ）： 811 - 817 . doi: 10.1007/s00542-018-4221-7 http://dx.doi.org/10.1007/s00542-018-4221-7

徐平，黄燕燕，张旭琳，等 . 无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作［J］. 光学精密工程， 2019 ， 27 （ 1 ）： 129 - 136 . doi: 10.3788/ope.20192701.0129 http://dx.doi.org/10.3788/ope.20192701.0129

XU P ， HUANG Y Y ， ZHANG X L ， et al . Fabrication of two-sided integrated microstructure element with high aspect ratio and without film substrate ［J］. Opt. Precision Eng. ， 2019 ， 27 （ 1 ）： 129 - 136 . （in Chinese） . doi: 10.3788/ope.20192701.0129 http://dx.doi.org/10.3788/ope.20192701.0129

XIE S P ， WAN X J ， YANG B ， et al . Design and fabrication of wafer-level microlens array with moth-eye antireflective nanostructures ［J］. Nanomaterials （Basel， Switzerland）， 2019 ， 9 （ 5 ）： 747 . doi: 10.3390/nano9050747 http://dx.doi.org/10.3390/nano9050747

BURGHOORN M ， ROOSEN-MELSEN D ， DE RIET J ， et al . Single layer broadband anti-reflective coatings for plastic substrates produced by full wafer and roll-to-roll step-and-flash nano-imprint lithography ［J］. Materials （Basel， Switzerland）， 2013 ， 6 （ 9 ）： 3710 - 3726 . doi: 10.3390/ma6093710 http://dx.doi.org/10.3390/ma6093710

WANG X ， LIEDERT C ， LIEDERT R ， et al . A disposable， roll-to-roll hot-embossed inertial microfluidic device for size-based sorting of microbeads and cells ［J］. Lab on a Chip ， 2016 ， 16 （ 10 ）： 1821 - 1830 . doi: 10.1039/c6lc00215c http://dx.doi.org/10.1039/c6lc00215c

HILTUNEN J ， LIEDERT C ， HILTUNEN M ， et al . Roll-to-roll fabrication of integrated PDMS-paper microfluidics for nucleic acid amplification ［J］. Lab on a Chip ， 2018 ， 18 （ 11 ）： 1552 - 1559 . doi: 10.1039/c8lc00269j http://dx.doi.org/10.1039/c8lc00269j

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